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運(yùn)營(yíng)商財(cái)經(jīng)網(wǎng)康釗:中國(guó)芯片代工技術(shù)被指仍然落后于歐十幾年

2024-12-27 04:09

?運(yùn)營(yíng)商財(cái)經(jīng) 康釗/文

近日荷蘭阿斯麥公司CEO指出 ,由于西方禁止對(duì)中國(guó)出口EUV光刻機(jī),導(dǎo)致中國(guó)芯片制造技術(shù)仍落后西方10-15年,其實(shí)這句話(huà)說(shuō)得沒(méi)錯(cuò),但顯然深深地刺痛了中國(guó)芯片業(yè)。

雖然芯片產(chǎn)業(yè)鏈要求的技術(shù)很多,但現(xiàn)在迫在眉睫的還是光刻機(jī)技術(shù),最近老有人說(shuō),中國(guó)掌握了7納米光刻機(jī)的核心技術(shù),使得半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)不再受制于人,但實(shí)際上只是中芯國(guó)際等個(gè)別芯片代工企業(yè)突破了7納米工藝,并非中國(guó)建立了先進(jìn)的光刻機(jī)廠商,因而無(wú)法不斷升級(jí)光刻機(jī)技術(shù),總不能靠中芯國(guó)際去研發(fā)光刻機(jī)吧?所以,當(dāng)務(wù)之急是中國(guó)各種企業(yè)要聯(lián)合起來(lái)組建一個(gè)光刻機(jī)企業(yè),研發(fā)先進(jìn)的光刻機(jī),否則永遠(yuǎn)是0。

(責(zé)任編輯:韓麗)

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